ITO导电膜生产技术
时间：2022-07-25
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利用磁控溅射技术生产各类光学电子薄膜。
磁控溅射技术：磁控溅射是物理气相沉积(Physical Vapor
Deposition，PVD)的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点。
其具有增透、吸收、截止、分光、反射、滤光、干涉、保护、防水防污、防静电、导电、导磁、绝缘、耐磨损、耐高温、耐腐蚀、抗氧化、防辐射、装饰和复合等功能，并能够提高产品质量、环保、节能、延长产品寿命、改善原有性能等。
理论上利用射频磁控溅射可以溅射沉积任何材料。
