ITO覆铜膜

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ITO覆铜膜

ITO覆铜膜

产品概要

  产品特点: 1、采用独有的PVD金属镀膜工艺,在各种ITO导电膜表面以及Hard-Coat PET 表面沉积连续的、均匀的金属(含纳米铜膜和纳米银膜)导电膜层,金属薄膜与原界面结合力好,大大减少针孔、脱膜等现象,大幅提高后序制程的良品率; 2、采用导电金属膜(导电铜膜和导电银膜)可制成窄边框(Narrow Bezel)和超窄边框(Slim Bezel)触控屏,大大提高触控屏的有效显示区域比率(屏占比),符合消费者对大屏显示需求和便携性需求兼顾的发展趋势;3、采用真空镀膜工艺制成的纳米级导电膜层,具有膜层致密、高附着力和低电阻率(方阻低于0.5 Ω·□)等特点。  主要技术参数表:  表面阻抗值(方阻R1):0.15-0.3 Ω·□,膜层厚度(Thickness)180nm - 230nm ,附着力测试通过(adhesive force test):≥5B,百格刀,3M 600。

发布时间:2022-07-25

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    产品详情

      产品特点: 1、采用独有的PVD金属镀膜工艺,在各种ITO导电膜表面以及Hard-Coat PET 表面沉积连续的、均匀的金属(含纳米铜膜和纳米银膜)导电膜层,金属薄膜与原界面结合力好,大大减少针孔、脱膜等现象,大幅提高后序制程的良品率; 2、采用导电金属膜(导电铜膜和导电银膜)可制成窄边框(Narrow Bezel)和超窄边框(Slim Bezel)触控屏,大大提高触控屏的有效显示区域比率(屏占比),符合消费者对大屏显示需求和便携性需求兼顾的发展趋势;3、采用真空镀膜工艺制成的纳米级导电膜层,具有膜层致密、高附着力和低电阻率(方阻低于0.5 Ω·□)等特点。

      主要技术参数表:

      表面阻抗值(方阻R1):0.15-0.3 Ω·□,膜层厚度(Thickness)180nm - 230nm ,附着力测试通过(adhesive force test):≥5B,百格刀,3M 600。


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